G4 PHOENIX DH用于测定不同样品中的扩散氢含量，仪器可配备快速加热的红外炉或者高温管式炉，并配置专用的石英管用于样品的加热。样品管直径达30mm能够实现对大块样品的分析，系统采用10点气标校准。系统的核心是一个高灵敏度长期稳定的热导检测器，该检测器能够实现超低含量氢的检出。

注意事项

1. 仪器工作环境温度为 15－30 度。（建议是有空调的试验室）

2. 仪器附近温度不要有大的波动，例如不要吹风，也不能有日晒。

3. 大干燥筒中装有 5A 分子筛，用于气体分离及脱水。为保 证良好的效果，分子筛 使用 3～6 个月后需重新进行活化。活化条件是将分子筛放在瓷器中在 500～550°

C 马弗炉中烘烧 2～3 小时。活化后即可再用。

4.干燥管中的高氯酸镁也会因吸湿而失效，2～3 个月可烘干一 次或换成新的。将 吸湿的高氯酸镁放在瓷器中于 105°C 下烘 2～3 小时（注意升温一定要缓慢）， 可重复使用。

5.由于仪器需要用氢气，注意避免烟火。

6.未经培训的仪器操作人员在仪器出现电路或气路故障的情况下，切勿对仪器内部

器件私自进行调整。